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藝術(shù)留學(xué)
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作品集難度
全部
4.0以下
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4.5以上
羅德島設(shè)計(jì)學(xué)院
Rhode Island School of Design(RISD)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 攝影專(zhuān)業(yè)
語(yǔ)言要求:托福:93 | 雅思:6.5
帕森斯設(shè)計(jì)學(xué)院
Parsons The New School for Design(Parsons)
申請(qǐng)難度:4.5
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 服裝設(shè)計(jì) | 配飾設(shè)計(jì) | 室內(nèi)設(shè)計(jì) | 時(shí)尚管理
語(yǔ)言要求:托福:92 | 雅思:7.0
紐約視覺(jué)藝術(shù)學(xué)院
School of Visual Arts(SVA)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 視覺(jué)傳達(dá) | 數(shù)字媒體 | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 時(shí)尚攝影
語(yǔ)言要求:托福:80 | 雅思:6.5
普瑞特藝術(shù)學(xué)院
Pratt Institute(Pratt)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 室內(nèi)設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 工業(yè)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:79 | 雅思:6.5
藝術(shù)中心設(shè)計(jì)學(xué)院
Art Center College of Design(ACCD)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 工業(yè)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 純藝術(shù)
語(yǔ)言要求:托福:本科80 研究生100 | 雅思:6.5
卡內(nèi)基梅隆大學(xué)
Carnegie Mellon University(CMU)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì) | 交互設(shè)計(jì) | 數(shù)字媒體 | 平面設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:102 | 雅思:7.5
加州藝術(shù)學(xué)院(CCA)
California College of the Arts(CCA)
申請(qǐng)難度:4.5
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì) | 交互設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 純藝術(shù)
語(yǔ)言要求:托福:本79 研100 | 雅思:本6.5 研7.5
福賽大學(xué)
Full Sail University
申請(qǐng)難度:4.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 新媒體新聞 | 娛樂(lè)業(yè) | 移動(dòng)開(kāi)發(fā)
語(yǔ)言要求:托福:79 | 雅思:6.0
伊利諾伊理工大學(xué)
Illinois Institute of Technology(IIT)
申請(qǐng)難度:4.5
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 交互設(shè)計(jì) | 工業(yè)設(shè)計(jì) | 建筑設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:雅思:6.5
亞利桑那州立大學(xué)
Arizona State University(ASU)
申請(qǐng)難度:4.5
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 室內(nèi)設(shè)計(jì) | 城市規(guī)劃 | 攝影 | 交互設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:本85 研85 | 雅思:本6.0 研6.5
明尼阿波利斯藝術(shù)設(shè)計(jì)學(xué)院
Minneapolis College of Art and Design(MCAD)
申請(qǐng)難度:4.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 平面設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 攝影專(zhuān)業(yè) | 純藝術(shù)
語(yǔ)言要求:托福: 79 | 雅思: 6.5
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