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藝術(shù)留學(xué)
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作品集難度
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4.0以下
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4.5以上
羅德島設(shè)計(jì)學(xué)院
Rhode Island School of Design(RISD)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 攝影專(zhuān)業(yè)
語(yǔ)言要求:托福:93 | 雅思:6.5
紐約視覺(jué)藝術(shù)學(xué)院
School of Visual Arts(SVA)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 視覺(jué)傳達(dá) | 數(shù)字媒體 | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 時(shí)尚攝影
語(yǔ)言要求:托福:80 | 雅思:6.5
皇家藝術(shù)學(xué)院
Royal College of Art(RCA)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 室內(nèi)設(shè)計(jì) | 工業(yè)設(shè)計(jì) | 動(dòng)畫(huà)設(shè)計(jì) | 交互設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:雅思:6.5
普瑞特藝術(shù)學(xué)院
Pratt Institute(Pratt)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 室內(nèi)設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 工業(yè)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:79 | 雅思:6.5
藝術(shù)中心設(shè)計(jì)學(xué)院
Art Center College of Design(ACCD)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 工業(yè)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 純藝術(shù)
語(yǔ)言要求:托福:本科80 研究生100 | 雅思:6.5
卡內(nèi)基梅隆大學(xué)
Carnegie Mellon University(CMU)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì) | 交互設(shè)計(jì) | 數(shù)字媒體 | 平面設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:102 | 雅思:7.5
耶魯大學(xué)
Yale University
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 建筑設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 攝影設(shè)計(jì) | 戲服設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:100 | 雅思:7.0
中央圣馬丁藝術(shù)與設(shè)計(jì)學(xué)院
Central Saint Martins College of Art and Design(CSM)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 服裝設(shè)計(jì) | 配飾設(shè)計(jì) | 室內(nèi)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:雅思:6.0
日本大學(xué)藝術(shù)學(xué)部
Nihon University College of Art
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 攝影 | 電影 | 建筑設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:日語(yǔ)n2
倫敦傳媒學(xué)院
London College of Communication(LCC)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 多媒體設(shè)計(jì) | 交互設(shè)計(jì) | 動(dòng)畫(huà)
語(yǔ)言要求:雅思:6.0
愛(ài)丁堡龍比亞大學(xué)
Edinburgh Napier University
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè): 電影制片 | 攝影設(shè)計(jì) | 動(dòng)畫(huà)專(zhuān)業(yè) | 交互設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福 80 | 雅思: 6.0
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